業務分類	大氣環境 空氣品質管理 固定源空污防制 移動源空污防制 室內空氣品質管理 噪音與電磁波管理

1261.	標題：一、依「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第２條第１項第６款規定：「揮發性有機物（VolatileOrganicCompounds，VOCs）：係指有機化合物成分之總稱 字號：環署空字第0970032069號函 日期：097.05.22
1262.	標題：一、依據本署公告第８批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源中各行業之廢棄物焚化程序（含一般廢棄物及事業廢棄物）係指同一公私場所，所有廢棄物焚化爐總設計或實際處理量為400公斤／小時以下者 字號：環署空字第0970033897號函 日期：097.05.20
1263.	標題：一、固定污染源設置與操作許可證管理辦法第32條規定：「本辦法所稱之空氣污染物年許可排放量，其推估依據之順序如下：一、公私場所固定污染源連續自動監測設施一年以上之監測資料 字號：環署空字第0970033265號函 日期：097.05.19
1264.	標題：一、依固定污染源設置與操作許可證管理辦法第19條第１項第３款第６目規定，操作許可證應登載之操作許可內容，包括：空氣污染物排放之監測、定期檢測、申報及其他應遵行事項之規定；及依「光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準」規定，管制對象為從事液晶面板製造及其相關材料、元件或產品製造者，並明定應定期檢測無機酸排放管道氫氟酸及鹽酸排放 字號：環署空字第0970033511號函 日期：097.05.16
1265.	標題：一、查本署公告第八批應申請設置、變更及操作許可之固定污染源光電材料、元件或電子零組件製造程序，係指從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達３萬元以上且廠房面積達50平方公尺以上者 字號：環署空字第0970031301號函 日期：097.05.07
1266.	標題：一、依固定污染源空氣污染物排放標準第３條第１項第１款規定，周界：指公私場所所使用或管理之界線，及依同標準第５條規定，周界測定係在公私場所周界外任何地點，能判定污染物由欲測之公私場所排放所為之測定 字號：環署空字第0970030145號函 日期：097.05.01
1267.	標題：一、依固定污染源空氣污染物排放標準第11條規定，各種污染物之濃度計算，均以凱氏溫度273度及1大氣壓下未經稀釋之乾燥排氣體積為計算基準 字號：環署空字第0970023832號函 日期：097.04.28
1268.	標題：一、有關固定污染源操作許可證送審文件中，地籍資料是否屬必須文件有疑義乙節，依固定污染源設置與操作許可證管理辦法（以下簡稱管理辦法）第13條規定，公私場所申請固定污染源操作許可證應送審之規定文件，包括申請表、目的事業主管機關核准設立、登記或營運之相關證明文件影本、空氣污染防制設施說明書、空氣污染物排放檢測計畫，以及其他經主管機關指定之文件 字號：環署空字第0970025035號函 日期：097.04.23
1269.	標題：一、依揮發性有機物空氣污染管制及排放標準第９條第３項規定，石化製程排放管道排氣以密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐處理者，其鍋爐或加熱爐負荷應維持揮發性有機污染物削減率達95％ 字號：環署空字第0970025248號函 日期：097.04.23
1270.	標題：一、依「檢查鑑定公私場所空氣污染物排放狀況之採樣設施規範」第４點規定採樣孔設置規範，及第７點規定污染源倘因故未能依本規範設置採樣設施時，應提書面資料說明，並經主管機關認可，其管制重點在於規範公私場所應設置安全之採樣設施，以及採樣孔應設置於採樣可行，且檢測污染源濃度、排放速率皆具代表性之位置，供檢查空氣污染物排放狀況 字號：環署空字第0970023737號函 日期：097.04.11