第 一 章 總則
第 1 條
本標準依空氣污染防制法第二十條第二項、第二十二條第二項、第三項及
第二十三條第二項規定訂定之。
第 2 條
本標準專有名詞及符號定義如下：
一 揮發性有機物 (Volatile Organic Compounds, VOCs) ：係指有機化
合物成分之總稱。但不包括甲烷、一氧化碳、二氧化碳、碳酸、碳化
物、碳酸鹽、碳酸銨等化合物。
二 石化製程：係指以化學或物理操作產製各類石油產品、石化基本原料
、石化中間產品或石化產品之製造程序，包括產製各類有機化學品、
樹脂、塑膠、橡膠及合成纖維原料等產品。
三 揮發性有機液體：係指含揮發性有機物成份佔重量百分比一○以上之
液體。
四 密閉排氣系統 (Closed Vent System) ：係指可將設備或製程設備元
件排出或逸散出之揮發性有機物，捕集並輸送至污染防制設備，使傳
送之氣體不直接與大氣接觸之系統。該系統包括管線及連接裝置。
五 污染防制設備：係指處理廢氣之熱焚化爐、觸媒焚化爐、鍋爐或加熱
爐等密閉式焚化設施、冷凝器、吸附裝置、吸收塔、廢氣燃燒塔或其
他經主管機關認定者。
六 製程回收系統：係指用以回收製程排出物中有機物成分之一個或數個
回收設備之組合，屬原製程中考量經濟因素，欲達設計產能不可或缺
之設備。
七 非破壞性物料回收處理方式：係指製程回收系統以外所額外加裝之污
染防制設備，具有回收物料之功能，以減少因破壞性燃燒生成額外之
空氣污染物。
八 標準操作溫度：係指焚化設施於焚化廢氣後符合規定排放濃度值或達
排放削減率之操作條件下，其溫度監測設施量測之平均溫度。
九 廢氣燃燒塔：係指煉油廠及石化廠中一種開放式燃燒裝置，該裝置包
括具支撐結構之塔身、燃燒嘴、母火裝置 (Pilot) 、輔助燃料系統
、點火裝置及其他附屬設施。可分為高架廢氣燃燒塔及地面廢氣燃燒
塔。
十 蒸氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔：係指焰頂處使用蒸氣噴嘴將蒸氣噴入
火焰中，藉以增加焰頂處空氣紊流效應，促使燃燒更完全之廢氣燃燒
塔。
十一 空氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔：係指焰頂處使用強制送風方式將空
氣噴入火焰中，藉以增加焰頂處空氣紊流效應，促使燃燒更完全之
廢氣燃燒塔。
十二 批次操作：係指不連續操作，即系統之進料與出料不在相同時間發
生，當所有進料反應完成後，才進行出料之操作。
十三 空氣氧化單元：係指一種或多種有機物與空氣或空氣與氧氣之混合
氣體，經由氧化反應、氧氯化反應或氨氧化反應生成一種或多種有
機產物、中間產物之製程單元。
十四 蒸餾操作單元：係指藉氣液相平衡原理分離進料中不同沸點揮發性
有機物成分之製程單元。
十五 其他石化製程單元：係指空氣氧化單元及蒸餾操作單元以外之石化
製程單元。
十六 固定式頂蓋 (Fixed Roof) ：係指以固定方式裝設於儲槽上之頂蓋
，不隨液面高低昇降者。
十七 浮動式頂蓋 (Floating Roof) ：係指以浮動方式裝設於儲槽上之
頂蓋，且該頂蓋係直接與液體表面接觸並隨液面高低昇降，為浮筒
式 (Pontoon-type) 或雙板層式 (Double-deck-type) 頂蓋，簡稱
浮頂。
十八 非接觸式內浮頂蓋 (Noncontact Internal Floating Roof) ：係
指浮頂之板層 (Deck) 位於浮筒上而使板層高於液面數英吋者。
十九 固定頂槽 (Fixed Roof Tank) ：係指儲槽之頂蓋為固定式，且無
另設浮頂者。
二十 外浮頂槽 (External Floating Roof Tank) ：係指儲槽之頂蓋為
浮動式，且其上方無另設固定式頂蓋者。
二十一 內浮頂槽 (Internal Floating Roof Tank) ：係指儲槽頂蓋為
浮動式，其上方並具有固定式頂蓋者。
二十二 封氣設備 (Closure Devices) ：係指浮頂邊緣與儲槽內壁間之
密封裝置 (Seal) 。
二十三 液態鑲嵌式密封 (Liquid-Mounted Seal) ：係指以泡棉或液體
充填之密封彈性體與儲存物料液面接觸之封氣裝置。
二十四 雙封式密封 (Two Seals) ：係指浮頂邊緣與儲槽內壁間裝設二
層封氣設備者。密封在下之層稱為初級密封，密封在上之層稱為
二級密封。
二十五 機械式鞋形密封 (Mechanical Shoe Seal) ：係指以一金屬薄板
，藉彈簧及重槓桿使金屬薄板垂直緊抵於儲槽之槽體壁板上，金
屬薄板另一端則以曲柄 (Braces) 連接者，屬封氣設備之一種。
二十六 浮頂負載支架 (Roof Supporting Leg) ：係指設於浮頂之浮筒
及平台處之浮頂支持腳，其功能係為保持浮頂與槽底間之距離，
以保護槽體壁板下部與槽底之零件與設備，並提供內部檢驗及清
洗之活動空間者。
二十七 支架襯套 (Leg Sleeve) ：係指浮頂負載支架與浮頂接合部份。
二十八 自動洩氣閥 (Automatic Bleeder Vent) ：係指當浮頂下降至接
近槽底時，受浮頂負載支架撐開，或當浮頂浮降中關閉，但浮頂
不浮降時則可開啟以排氣之閥。
二十九 邊緣通氣孔 (Rim Space Vent) ：係指供排放浮頂下累積於浮頂
邊緣之積存空氣與未凝結蒸氣之通氣孔。
三十 支柱井 (Column Well) ：係指內浮頂槽內用以支撐固定頂之垂直
支柱，與內浮頂之 接合部份。
三十一 樓梯井 (Ladder Well) ：係指自固定頂之人孔延伸至槽底之梯
子，其於浮頂上之開孔。
三十二 取樣井 (Sampling Well) ：係指浮頂上供採集儲存物料樣品之
開孔。
三十三 計量井 (Automatic Gauge Float Well) ：係指液位計浮標於浮
頂上之開孔。
三十四 壓力槽：係指內部壓力大於七七三mmHg以上且無自由管道與大氣
連通使其操作時無任何揮發性有機物排放之儲槽。
三十五 縫隙寬度：係指浮頂邊緣與儲槽內壁間之水平寬度。
三十六 裝載操作 (Loading) ：係指將儲存於儲槽中之揮發性有機液體
經裝載操作設施導入槽車、油罐火車或油輪之操作。
三十七 裝載操作循環 (Loading Cycle) ：係指物料自開始裝載入槽車
、油罐火車或油輪至物料停止裝載後其置換出之蒸氣停止逸出為
止。
三十八 裝載操作設施 (Loading Rack) ：係指裝載操作涵蓋之相關設施
，包括灌裝臂 (Loading Arm) 、泵浦、流量計、關斷閥、釋壓
閥、管線、蒸氣收集系統及其他相關閥件等。
三十九 蒸氣收集系統 (Vapor Collection System) ：係指裝載操作時
用以收集被置換出之揮發性有機氣體的設備。
四十 輕質液：係指在製程操作條件下製程流體為液態，且該製程流體於
二○℃時含蒸氣壓大於或等於二．二五mmHg之揮發性有機物成分佔
其重量百分比二○以上者。
四十一 重質液：係指輕質液以外之揮發性有機液體。
四十二 真空設備元件：係指該設備元件於操作時，其所承受之絕對壓力
在七二二．五mmHg以下者。
四十三 難以檢測之設備元件 (Inaccessible Component) ：係指設備元
件無法以偵測儀器進行一般性量測，例如被檢測之設備元件在檢
測時有安全顧慮或設備元件所在位置高於人員可站立處二公尺以
上者。
四十四 開口閥 (Open-ended Valve) ：係指閥座一側接觸製程流體，另
一側接觸大氣之閥。但不包括釋壓裝置。
四十五 線上取樣分析系統：係指該取樣系統非以人工抽取式操作而係採
管線上自動採樣之儀器分析系統。
四十六 初檢測值：係指檢測某設備元件逸散之揮發性有機物原始讀值。
四十七 背景濃度值：係指檢測儀器在欲檢測之設備元件上風位置一公尺
至二公尺處，隨機所量得之揮發性有機物儀器讀值，若該量測位
置有遭受其他鄰近設備元件干擾之虞，則其距離可予縮短，但不
得少於二十五公分。
四十八 淨檢測值：係指初檢測值減去背景濃度值之淨值。
四十九 未可檢出定義值：係指八十六年二月六日以前已設立之製程設備
元件之淨檢測值為五○○ ppm；八十六年二月七日以後設立之製
程內設備元件之淨檢測值為一○○ ppm。但壓縮機則仍適用五○
○ ppm。
五十 洩漏定義值：係指八十六年二月六日以前已設立之製程內設備元件
之淨檢測值大於或等於一○、○○○ ppm；八十六年二月七日以後
設立之製程內設備元件之淨檢測值大於或等於二、○○○ ppm。但
壓縮機則仍適用一○、○○○ ppm。
五十一 洩漏源：係指設備元件淨檢測值超過洩漏定義值者、目視發現製
程流體自設備元件處滴漏、止漏流體軸封系統失效或設備元件應
符合未可檢出定義值而未符合者，該類設備元件均謂之洩漏源。
五十二 洩漏比例：係指製程內某類設備元件流經氣體、輕質液或重質液
製程流體之洩漏源個數，佔該類元件檢測總個數之比例。
五十三 E ：經製程回收系統後，進入污染防制設備前之揮發性有機物質
量流率，單位為kg/hr 。
五十四 Eo：經污染防制設備處理後逕排大氣之揮發性有機物質量流率，
單位為 kg/hr。
五十五 R ：揮發性有機物排放削減率，單位為％。計算公式如下：
E-Eo
R＝───×100％
E
五十六 C ：揮發性有機物排放濃度，係以凱氏溫度二七三度及一大氣壓
下未經稀釋之乾燥排氣體積為計算基準，單位為 ppm ，以 CH4
表示。
五十七 MJ：百萬焦耳。
五十八 HT：設計條件下導入之廢氣 (Flare Gas) 總淨熱值，單位為
MJ/NM3 。計算公式如下：
m
HT=1.87×10-7Σ CiHi
i=1
m ：設計條件下導入之廢氣中成分總數，包括氫氣、一氧化碳、
揮發性有機物等成分。
Ci：設計條件下導入之廢氣中i 成分之溼基排放濃度，單位為
ppm 。
Hi：設計條件下導入之廢氣中i 成分在凱氏溫度二九八度
(298K)、一大氣壓下、一克莫耳淨燃燒熱值，單位為
kcal/g-mole 。
五十九 V ：以設計條件下導入之廢氣排氣流量 (單位為N/sec) 除以
廢氣燃燒塔頂端截面積 (單位為) 所得之排放速度，單位為
m/sec。
六十 Vmax：設計條件下蒸氣輔助燃燒型式及無輔助燃燒型式廢氣燃燒塔
之最大允許排放速度，單位為m/sec 。計算公式如下：
Log10 (Vmax)= (ＨT+29.9)/34.0
六十一 V'max ：設計條件下空氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔之最大允許排
放速度，單位為 m/sec。計算公式如下：
V'max=8.112+0.615 (ＨT)
第 二 章 廢氣燃燒塔
第 3 條
本章適用對象為石化製程使用之廢氣燃燒塔。
第 4 條
廢氣燃燒塔之設計條件應符合下表之規定或能使導入之揮發性有機物削減
率大於或等於百分之九十八以上。
┌────────┬───────────┐
│輔助燃燒型式 │總淨熱值與排放速度限值│
├────────┼───────────┤
│蒸氣輔助燃燒型式│Ht≧12MJ／Nm3 │
│ │V ≦Vmax≦114m／sec │
├────────┼───────────┤
│空氣輔助燃燒型式│Ht≧12MJ／Nm3 │
│ │V ≦V'max │
├────────┼───────────┤
│無輔助燃燒型式 │Ht≧8MJ／Nm3 │
│ │V ≦Vmax≦114m／sec │
└────────┴───────────┘
第 5 條
廢氣燃燒塔之母火不可熄滅。廢氣燃燒塔應設置具有記錄功能之感知器或
監視器，並於進廢氣管線設置具有記錄功能之連續指示壓力或廢氣流量之
指示器。
前項紀錄至少應保存一星期。
第 三 章 製程排放管道
第 6 條
本章適用對象為石化製程之排放管道。但下列石化製程不適用本章規定：
一 產製食用酒精之製程。
二 以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。
三 排氣中揮發性有機物排放量小於三五○ mg／min (揮發性有機物排放
量以 CH4表示) 之批次操作製程。
四 排氣流量小於六○ Nm3／hr 之連續操作製程。
五 其他經中央主管機關公告之製程。
第 7 條
石化製程排放管道排氣應以密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐之爐膛火焰
區焚化或加裝其他符合下表規定之污染防制設備處理後始得排放。
┌─────┬────┬───────────────────┐
│污 染 源│適用對象│ 排 放 標 準 │
├─────┼────┼───────────────────┤
│ │八十六年│揮發性有機物排放削減率 (R) 大於或等於│
│ │二月六日│百分之九十或排放濃度 (C) 小於或等於一│
│ │以前設立│五○ ppm │
│空氣氧化單│者 │ │
│元及蒸餾操├────┼───────────────────┤
│作單元 │八十六年│揮發性有機物排放削減率 (R) 大於或等於│
│ │二月七日│百分之九十五或排放濃度 (C) 小於或等於│
│ │以後設立│一○○ ppm │
│ │者 │ │
├─────┼────┼───────────────────┤
│ │八十六年│揮發性有機物排放削減率 (R) 大於或等於│
│ │二月六日│百分之九十或排放濃度 (C) 小於或等於二│
│ │以前設立│○○ ppm │
│其他石化製│者 │ │
│程單元 ├────┼───────────────────┤
│ │八十六年│揮發性有機物排放削減率 (R) 大於或等於│
│ │二月七日│百分之九十五或排放濃度 (C) 小於或等於│
│ │以後設立│一五○ ppm │
│ │者 │ │
└─────┴────┴───────────────────┘
前項以密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐處理，其鍋爐或加熱爐負荷應能
維持揮發性有機污染物削減率大於或等於百分之九十五。
石化製程排放管道排氣採非破壞性物料回收處理方式，其揮發性有機物排
放削減率 (R) 大於或等於百分之八十五或排放濃度 (C) 小於或等於三
○○ ppm者，得不受前二項之限制。
第 8 條
石化製程排放管道污染防制設備之廢氣導入處應設置流量監測設備，並依
下列規定設置連續自動監測設施。
一 其為熱焚化爐者，應於其爐膛內設置有具連續記錄功能之溫度監測設
施。
二 其為觸媒焚化爐者，應於觸媒床前、後各設置具有連續記錄功能之溫
度監測設施。
三 使用前述各款以外之污染防制設備者，應設置足以有效監視其正常操
作之連續監測設施，並提出書面資料經主管機關認可。
前項使用焚化設施做為污染防制設備者，其連續溫度監測設施所得之三小
時平均溫度不得低於標準操作溫度三○℃以上。
第 四 章 揮發性有機關液體儲槽
第 9 條
本章適用對象為公私場所之揮發性有機液體儲槽。但下列儲槽不適用本章
規定：
一 儲槽容積小於十五立方公尺者。
二 儲存物料之實際蒸氣壓小於二十六 mmHg 者。
三 儲槽容積小於一○○立方公尺，且其儲存物料之實際蒸氣壓小於二一
○ mmHg 者。
四 槽體設計操作壓力大於一五五○ mmHg 之壓力槽，且於正常操作情形
無廢氣排放至大氣者。
五 用於儲存食用酒精之儲槽。
六 其他經中央主管機關公告之儲槽。
第 10 條
揮發性有機液體儲槽儲存物料之實際蒸氣壓大於或等於五七○ mmHg 者應
符合下列規定之一：
一 採用壓力槽。
二 非採用壓力槽者，應裝設密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐膛之焰區
，或其他使揮發性有機物排放削減百分比 (R) 大於或等於百分之九
十五或排放濃度 (C) 小於或等於一○○ PPm之污染防制設備。
揮發性有機液體儲槽儲存物料之實際蒸氣壓小於五七○ mmHg 者應符合下
列規定之一：
一 採用浮頂槽。
二 採用固定頂槽者，應裝設密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐之爐膛火
焰區，或其他使揮發性有機物排放削減率 (R) 大於或等於百分之九
十五或排放濃度 (C) 小於或等於一五○ ppm污染防制設備。
儲槽之排氣係採非破壞性物料回收處理方式，其揮發性有機物排放削減率
(R) 大於或等於百分之八十五或排放濃度 (C) 小於或等於三○○ ppm
者，得不受前二項之限制。
第 11 條
揮發性有機液體儲槽採內浮頂槽者應符合下列規定：
一 浮頂應隨時保持浮於儲存物料之液面上。但儲槽排空時，不在此限。
二 浮頂與槽壁間安裝下列之一封氣設備：
(一) 液態鑲嵌式密封。
(二) 雙封式密封。
(三) 機械式鞋形密封。
(四) 其他經主管機關認可之封氣設備。
三 非接觸式內浮頂蓋之每個開口均應伸入液面下。但自動洩氣閥及邊緣
通氣孔，不在此限。
四 浮頂上之開口於不使用時，應以具襯墊之封蓋保密閉狀態，人員進出
口及計量井應加閂鎖。但支架襯套、自動洩氣閥、邊緣通氣孔、支柱
井、樓梯井及取樣井，不在此限。
五 自動洩氣閥應具襯墊，於浮頂浮動時關閉，在浮頂下降至槽底受浮頂
負載支架持時開啟。
六 邊緣通氣孔應具襯墊，且僅於浮頂未浮動或在設定條件之狀況下開啟
。
七 取樣井應具備縫隙開孔構造之封蓋 (Slit Fabric Cover) ，該封蓋
之覆蓋面積至少達開孔面積百分之九○以上。
八 支柱井應採具彈性構造之襯套密封或具襯墊之滑動封蓋。
九 樓梯井應採具襯墊之滑動封蓋。
第 12 條
揮發性有機液體儲槽採外浮頂槽於八十六年二月六日以前已設立者，其浮
頂與儲槽內壁間之封氣設備可採單封式或雙封式密封；但單封式密封應為
液態鑲嵌式密封或機械式鞋形密封。於八十六年二月七日以後設立者，其
浮頂與儲槽內壁間之封氣設備應採雙封式密封，初級密封應為液態鑲嵌式
密封、機械式鞋形密封或其他經主管機關認可之封氣設備，且初級密封與
二級密封應裝入浮頂與槽壁間之環狀空間。
前項所列封氣設備應符合下列規定：
一 初級密封
(一) 任何地方之縫隙寬度不可大於三公分。
(二) 當機械式鞋形密封的一端已浸在儲存液體中時，另一端應離液面至
少六十公分。
(三) 機械式鞋形密封、密封構造或密封物之外皮 (Envelope) 不可有破
洞、裂縫或任何開口。
二 二級密封或單封式密封
(一) 任何地方之縫隙寬度不可大於一公分。
(二) 密封裝置不可有破洞、裂縫或任何開口。
三 準用前條第一款、第三款至第六款。
第 13 條
揮發性有機液體儲槽浮頂槽之檢查與修護應符合下列規定：
一 內浮頂槽
(一) 於首次進料前應目視檢查浮頂及密封，若發現破洞、裂縫或其他開
口，應於修護完成後始可進料。
(二) 配備液態鑲嵌式密封或機械式鞋形密封或其他單封式封氣設備之儲
槽，自首次進料後每十二個月應經由固定頂上之人孔及頂艙口，目
視檢查浮頂及密封；配備雙封式密封之儲槽至少每五年應目視檢查
一次。
(三) 浮頂未浮在液面上、浮頂上有液體累積現象或密封上有破洞或裂縫
者，應自檢查發現日起九十日內完成修護或排空儲槽停止使用。無
法於九十日內完成修護或排空儲槽者應檢具文件說明無法取得替代
儲槽及預定儘速修護或排空儲槽之時間表，經主管機關核准後，始
得展延修護或排空儲槽期限，展延期間不得超過一八○日。
二 外浮頂槽
(一) 應定期量測縫隙寬度並於量測三十日前通知主管機關，其量測頻率
如下：
1 初級密封縫寬度之初次量測應在儲槽水壓測試期間或儲槽首次進
料後六十日內進行，其後至少每五年量測一次。
2 二級密封或採單封式密封之縫隙寬度之初次量測應在儲槽首次進
料後六十日內進行，其後至少每年量測一次。
3 若儲槽停止儲存物料一年以上，俟其重新使用時視為首次進料，
需進行前述 1、2 之量測。
(二) 儲槽縫隙寬度及封氣設備，經檢查或量測結果未能符合第十二條規
定者，應自檢查發現日起九十日內完成修護或排空儲槽停止使用。
無法於九十日內完成修護或排空儲槽者，應檢具文件說明無法取得
替代儲槽及預定儘速修護或排空儲槽之時間表，經主管機關核准後
，始得展延修護或排空儲槽期限，展延期間不得超過一八○日。
(三) 每次儲槽排空後，應目視檢查浮頂及其封氣設備是否有任何缺陷、
破洞、裂縫或開口。
第 14 條
揮發性有機液體槽記錄、保存與申報規定如下：
一 設備檢查或量測應做成紀錄，包括儲槽編號、檢查或量測日期、檢查
或量測結果，設備受檢時之狀況。
二 檢查或量測結果不符合第十一條及第十二條之規定者，應將記載包括
儲槽編號、檢查日期、不符合規定情形、預定維修日期等相關資料於
十五日內提報地方主管機關，並在修護完成後三十日內通知該主管機
關。
三 第一款之紀錄檔至少應保存五年。
第 15 條
揮發性有機液體儲槽污染防制設備之流量監測設備及連續自動監測設施適
用第八條之規定。
第 五 章 揮發性有機液體裝載操作設施
第 16 條
本章適用對象為公私場所之揮發性有機液體裝載操作設施。但下列設施不
適用本章規定：
一 年裝載量小於一五○○立方公尺者。
二 裝載之物料於裝載操作時之實際蒸氣壓小於二十六 mmgHg 者。
三 年裝載量小於一○○○○立方公尺，且其裝載之物料於裝載操作時之
實際蒸氣壓小於二一○ mmHg 者。
四 加油站內以加油槍進行油箱注油作業者。
五 其他經中央主管機關公告之裝載操作設施。
第 17 條
揮發性有機液體裝載操作設施應配備蒸氣收集系統連通至下列污染防制設
備之一：
一 鍋爐或加熱爐之爐膛火焰區。
二 具有污染防制設備之儲槽。
三 能使揮發性有機物排放削減率 (R) 大於或等於百分之九○或排放濃
度小於或等於二○○ ppm之污染防制設備。
裝載操作設施之排氣係採排破壞性物料回收處理方式，其揮發性有機物排
放削減率 (R) 大於或等於百分之八十五或排放濃度 (C) 小於或等於三
○○ ppm者，得不受前項之限制。
第 18 條
揮發性有機液體裝載操作設施污染防制設備之流量監測設備及連續自動監
測設施適用第八條之規定。
第 六 章 設備元件
第 19 條
本章適用對象為石化製程之設備元件，包括泵浦、壓縮機、釋壓閥、安全
閥等釋壓裝置、取樣連接系統、開口閥、閥、法蘭或與製程設備銜接之其
他連接頭。但下列設備元件不適用本章規定：
一 流經該設備元件之流體中，其所含揮發性有機物之重量百分比小於一
○者。
二 屬於真空設備元件者。
三 屬於難以檢測之設備元件者。
四 設備元件埋於地下無法量測者。
五 其他經中央主管機關公告之設備元件。
第 20 條
石化製程之設備元件洩漏管制規定如下：
一 設備元件軸封處之製程流體包括重質液及輕質液，滴漏不得超過每分
鐘三滴。
二 八十六年二月六日以前已設立設備元件之淨檢測值不得大於五○、○
○○ ppm；八十六年二月七日以後新設立設備元件之淨檢測值不得大
於一○、○○○ ppm。但壓縮機則仍適用五○、○○○ ppm。
三 開口閥之下游端應裝設栓蓋 (Cap) 、盲法蘭 (Blind Flange) 、栓
塞 (Plug) 或二次閥 (Second Valve) 以封止其開口端。
但實際操作中製程流體需自開口閥排出者，不在此限。
四 取樣連接系統應符合下列規定之一：
(一) 取樣連接系統裝設有密閉排氣系統連通至污染防制設備，且該污染
防制設備符合第二十一條第三款第二目之規定。
(二) 採用密閉迴路式取樣連接系統。
(三) 採用線上取樣分析系統者。
前項第一款、第二款不適用已依規定標示標籤，且於法定修護期限內之設
備元件。
第 21 條
石化製程之設備元件洩漏檢測規定如下：
一 輕質液泵浦應每週目視檢查其軸封處是否有製程流體滴漏。
二 重質液泵浦、重質液閥、輕質液釋壓裝置、重質法蘭，應每季目視檢
查或以嗅聞、聽等其它簡易方法檢漏；發現有洩漏跡象者，應於五日
內使用偵測儀器予以檢測，以確認是否為洩漏源。
三 輕質液泵浦、氣體壓縮機、氣體閥、輕質液閥應每三個月檢測一次。
但符合下列規定之一者，不在此限：
(一) 設備元件為無洩漏型式且小於或等於未可檢出定義值者。
(二) 設備元件裝設密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐之爐膛火焰區或其
他使揮發性有機物排放削減率 (R) 大於或等於百分之九十五之污
染防制設備。
(三) 輕質液泵浦、氣體壓縮機具止漏流體軸封系統，且該系統符合下列
規定者：
1 止漏流體之操作壓力恆大於軸封填料箱 (Stuffing Box) 壓力。
2 裝設可監測止漏流體軸封系統異常或失效之警報裝置；未裝設警
報裝置者，應每日檢查軸封系統並作成紀錄。
3 軸封系統之設計具備可將止漏流體吹排回製程流體或密閉排氣系
統者。
四 氣體閥、輕質液閥連續六個月洩漏比例均小於百分之二者，得每半年
檢測一次；連續一年洩漏比例均小於百分之二者，得每一年檢測一次
。但檢測發現其洩漏比例大於百分之二者，則應每三個月檢測一次。
五 氣體釋壓裝置每三個月及每次釋壓排放後五日內應以偵測儀器檢測一
次，以判定其是否小於或等於未可檢出定義值。但氣體釋壓裝置裝設
有密閉排氣系統連通至污染防制設備，且該污染防制設備符合本條第
三款第二目之規定者，或前端裝置破裂盤者，可免除檢測。
第 22 條
石化製程之設備元件修護規定如下：
一 設備元件經發現為洩漏源者，除有特別規定其修護期限得予展延外，
應依下列規定期限完成修護：
(一) 洩漏源軸封處之製程流體包括重質液及輕質液，滴漏每分鐘超過三
滴者，應自發現起四十八小時內完成修護。
(二) 除開口閥、取樣連接系統及已依規定標示標籤者外之設備元件，其
每日隨機檢測之洩漏比例超過百分之二者，應自發現起四十八小時
內完成修護。
(三) 洩漏源淨檢測值符合下表情形者，應自發現起四十八小時內完成修
護。
┌────────┬──────────────────┐
│適用對象 │ 淨 檢 測 值 │
├────────┼──────────────────┤
│八十六年二月六日│大於或等於五○、○○○ ppm │
│以前設立之洩漏源│ │
├────────┼──────────────────┤
│八十六年二月七日│壓縮機大於或等於五○、○○○ ppm或其│
│以後設立之洩漏源│它洩漏源大於或等於一○、○○○ ppm │
└────────┴──────────────────┘
(四) 洩漏源淨檢測值符合下表情形者，應自發現日起七日內完成修護。
┌────────┬──────────────────┐
│適用對象 │ 淨 檢 測 值 │
├────────┼──────────────────┤
│八十六年二月六日│氣體釋壓裝置大於或等於五○○ ppm或其│
│以前設立之洩漏源│它洩漏源大於或等於一○、○○○ ppm │
├────────┼──────────────────┤
│八十六年二月七日│壓縮機大於或等於一○、○○○ ppm、氣│
│以後設立之洩漏源│體釋壓裝置大於等於一○○ ppm或其它洩│
│ │漏源大於或等於二、○○○ ppm │
└────────┴──────────────────┘
二 前款所稱特別規定係指有下列情形之一者：
(一) 除該製程停車外，其洩漏源之修護在技術上有困難者。
(二) 該洩漏源已與運轉中之製程隔離 (Isolation) ，不再繼續使用或
操作者。
(三) 若採立即修護，其所導致之揮發性有機物排放遠大於該洩漏源排放
者。
(四) 該洩漏源無法藉維修方式達到管制標準，而需以汰換或設備改良方
式進行改善者。
(五) 其他可資證明其延長修護係因技術上之困難理由者。
三 因前款所列情形導致修護期限展延之洩漏源，應於下次停車期間內完
成修護。
四 第一款所稱完成修護係指修護後符合該款各目之規定。
第 23 條
石化製程之設備元件記錄、保存與申報規定如下：
一 以偵測儀器進行之設備元件定期檢測應做成紀錄，包括使用之偵測儀
器型式、檢測人員姓名、元件編號、元件型式、流體組成、檢測日期
及篩選檢測結果。
二 設備元件經檢測判定為洩漏源者，應將相關資料記錄在維護紀錄表上
，包括使用之偵測儀器型式、檢測人員姓名、洩漏源之元件編號、洩
漏發現日期、修護完成日期、修護方法、未能於規定期限完成修護之
延誤理由，並應以防水且易識別之標籤註明其元件編號、洩漏發現日
期及時間、預定修護日期標示在洩漏源上，當修護完成後應即予拆除
。
三 偵測儀器之校正、保養及維護資料應予記錄。
四 第一款至第三款紀錄資料應製成檔案，至少保存二年備查。
第 24 條
石化製程設備元件污染防制設備之流量監測設備及連續自動監測設施適用
第八條之規定。
第 七 章 附則
第 25 條
揮發性有機物濃度與流率之測定方法及設備元件偵測儀器之性能要求與檢
測方法，依中央主管機關公告之方法。
第 26 條
本標準未規定事項依相關規定辦理。
第 27 條
八十六年二月六日以前已設立之揮發性有機液體儲槽，其儲存物料之實際
蒸氣壓小於二一○mmHg者，自八十八年七月一日起應符合第四章規定。
本標準除另訂施行日期者外，自發布日施行。