標題：	廢/停一、依光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準第４條第１項規定，光電業排放之空氣污染物應經密閉排氣系統收集並符合排放標準規定後始得排放
發文機關：	行政院環境保護署
發文字號：	環署空字第0950026352號函
發文日期：	民國 95 年 04 月 26 日
單位業務分類：	大氣環境/固定源空污防制
內容：	全文內容：一、依光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準第 4  條第 1  項               規定，光電業排放之空氣污染物應經密閉排氣系統收集並符合排放標               準規定後始得排放。其中「密閉排氣系統」係指可將製程設備產生之               空氣污染物有效捕集並輸送至污染防制設備，使傳送之氣體不直接與               大氣接觸之系統。該系統包括管線及連接裝置。亦即光電業製程使用               有機溶劑進行產品、半產品或機台擦拭、清洗所產生之空氣污染物，               均應經密閉排氣系統收集，但原料儲槽與廢水處理場因非屬製程設備               ，則不在此限。另光電業以無塵室方式進行作業可視為密閉排氣系統               ，其所連接之排放管道及相關採樣設施之設置均應符合「檢查鑑定公               私場所空氣污染物排放狀況之採樣設施規範」規定，許可申請應將無               塵室一併納入申請，並應依同標準規定進行相關檢測作業。           二、依光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準第 7  條第 1  款               規定，揮發性有機物單位小時許可排放量達 1.3  公斤以上者，其揮               發性有機物污染防制設備之廢氣導入處及排放口應設置連續自動監測               設施。亦即凡屬光電業所規範之揮發性有機物連續自動監測設施設置               對象時，其連續自動監測設施之設置應符合「固定污染源空氣污染物               連續自動監測設施管理辦法」所定揮發性有機物連續自動監測及相關               規定。           三、對於光電業如採污染防制設備處理效率為其排放標準時，其應於防制               設備前端設置符合「檢查鑑定公私場所空氣污染物排放狀況之採樣設               施規範」規定之採樣設施，倘既存製程之污染防制設備前端採樣口無               法符合 8D/2D，亦未能符合 1.5D/0.5D  時，則可依前揭規範第 7                 條規定，提書面資料說明並經主管機關認可。至於未符合規範時之採               樣結果認定乙節，本署刻正著手研擬修正採樣設施規範及相關檢測方               法規定，俾使檢驗測定結果更具代表性。           四、另關於半導體製造業倘採以處理效率為其排放標準時，相關密閉排氣               系統、揮發性有機物連續自動監測設施及採樣設施等，亦應比照前述               規定辦理。
相關法規：	光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準第4條 光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準第7條 固定污染源空氣污染物連續自動監測設施管理辦法第22條 空氣污染防制法第20條