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行政函釋內容

_本系統行政函釋內容係函釋作成當時之公文原文，其內所引述法規之名稱及條次可能因法規嗣後異動而有所不同
標題： 一、依本署八十九年十一月二日（八九）環署空字第○○六四七八號公告修正第一批至第七批部分公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定污染源，其中第二批及第三批之半導體製造程序，係指從事晶片製造、晶圓製造、晶圓封（包）裝、積體電路或其他半導體之生產者
發文機關： 行政院環境保護署
發文字號： 環署空字第0019746號函
發文日期： 民國 90 年 04 月 10 日
單位業務分類： 大氣環境/固定源空污防制
內容： 全文內容：一、依本署八十九年十一月二日（八九）環署空字第○○六四七八號公告
              修正第一批至第七批部分公私場所應申請設置、變更及操作許可之固
              定污染源，其中第二批及第三批之半導體製造程序，係指從事晶片製
              造、晶圓製造、晶圓封（包）裝、積體電路或其他半導體之生產者。
              上述積體電路晶片封（包）作業中若未涉及導線電鍍、浸錫、有機溶
              劑清洗或酸洗等步驟者不在此限。
          二、半導體封裝製程已領有固定污染源操作許可證，該製程經移除部分污
              染源後倘未涉及導線電鍍浸錫、有機溶劑清洗或酸係等步驟條件，則
              可免申請固定污染源操作許可證，得辦理許可證註銷。
相關法規：