標題：	一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第四條規定：半導體製造業產生之廢氣應由密閉排氣系統導入污染防制設備，其揮發性有機物處理應符合排放削減率大於百分之九○或工廠總排放量每小時小於○‧六公斤；三氯乙烯應符合排放削減率大於百分之九○或工廠總排放量每小時小於○‧○二公斤，始得排放
發文機關：	行政院環境保護署
發文字號：	環署空字第0054477號函
發文日期：	民國 89 年 09 月 25 日
單位業務分類：	大氣環境/固定源空污防制
內容：	全文內容：一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第四條規定：半導體製造               業產生之廢氣應由密閉排氣系統導入污染防制設備，其揮發性有機物               處理應符合排放削減率大於百分之九○或工廠總排放量每小時小於○               ‧六公斤；三氯乙烯應符合排放削減率大於百分之九○或工廠總排放               量每小時小於○‧○二公斤，始得排放。           二、前述規定，倘半導體製造業全廠所有排放管道揮發性有機物之總排放               量每小時小於○‧六公斤，或三氯乙烯工廠總排放量每小時小於○‧               ○二公斤，即可符合該標準規定。惟主管機關申報確認其空氣污染物               排放係採「排放削減率」或「工廠總排放量」擇一固定排放方式，俾               利主管機關據以管制。
相關法規：	半導體製造業空氣污染管制及排放標準第4條 空氣污染防制法第20條