標題：	一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第二條及第三條規定該標準適用對象為：半導體製造業從事積體電路晶圓製造及封裝、磊晶、光罩製造及導線架製造等作業，且揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸及氫氟酸等各項物質之原物料年使用量，高於規定之數量者
發文機關：	行政院環境保護署
發文字號：	環署空字第0069921號函
發文日期：	民國 88 年 11 月 01 日
單位業務分類：	大氣環境/固定源空污防制
內容：	全文內容：一、「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」第二條及第三條規定該標               準適用對象為：半導體製造業從事積體電路晶圓製造及封裝、磊晶、               光罩製造及導線架製造等作業，且揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、               硫酸、鹽酸、磷酸及氫氟酸等各項物質之原物料年使用量，高於規定               之數量者。           二、污染源從事薄膜電晶體液晶顯示器生產作業，倘其使用之基材屬半導               體元件，且製程中之揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、               磷酸及氫氟酸等原物料之年使用量符合前述規定者，屬「半導體製造               業空氣污染管制及排放標準」管制對象；惟使用基材屬非半導體元件               （如玻璃、塑膠等）者，則非屬該標準管制對象。
相關法規：	半導體製造業空氣污染管制及排放標準第2條 半導體製造業空氣污染管制及排放標準第3條 空氣污染防制法第20條