標題：	函詢有關半導體製造業空氣污染管制及排放標準第５條第１項第４款規定每年至少以標準檢測方法比測1次疑義乙案
發文機關：	行政院環境保護署
發文字號：	環署空字第0980101770號函
發文日期：	民國 98 年 11 月 27 日
單位業務分類：	大氣環境/固定源空污防制
內容：	主    旨：函詢有關半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5  條第 1  項第 4             款規定每年至少以標準檢測方法比測 1  次疑義乙案，復請查照。 說    明：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5  條第 1  項第 4  款               規定，依同標準第 4  條規定收集至污染防制設備處理之廢氣，其流               量計及濃度監測器之有效每季監測率應大於 80％ ，每年至少以標準               檢測方法比測 1  次，比測時間每次至少 2  小時，所設置之流量計               及濃度監測器所得之結果應以上次比測結果修正之。上述比測作業之               目的，主要係確保廢氣流量計及濃度監測器正常操作，且可測得正確               之數據，俾提高監測品質，落實空氣污染管制工作，所稱「每年」，               係指每一年自 1  月 1  日起至 12 月 31 日止之期間。           二、適用前揭標準管制對象之半導體業者，其依規定設置之廢氣流量計及               濃度監測器，應於每年 1  月 1  日至 12 月 31 日期間，以標準檢               測方法進行至少 1  次比測。
相關法規：	半導體製造業空氣污染管制及排放標準第4條 半導體製造業空氣污染管制及排放標準第5條 空氣污染防制法第20條 空氣污染防制法第22條 空氣污染防制法第23條