標題：	函詢貴轄○○科技股份有限公司製程是否屬公私場所應申請設置、變更及操作許可之公告對象疑義案
發文機關：	行政院環境保護署
發文字號：	環署空字第0980037831號函
發文日期：	民國 98 年 05 月 11 日
單位業務分類：	大氣環境/固定源空污防制
內容：	主    旨：函詢貴轄○○科技股份有限公司製程是否屬公私場所應申請設置、變更及           操作許可之公告對象疑義案，請查照。 說    明：一、依本署公告第 2  批及第 3  批應申請固定污染源設置、變更及操作               許可之半導體製造程序條件，係指從事晶片製造、晶圓製造、晶圓封               （包）裝、積體電路或其他半導體之生產者，而半導體指於矽（四價               ）中添加三價或五價元素形成之電子元件，管制重點主要在規範半導               體生產程序排放之酸鹼廢氣、揮發性有機空氣污染物，應妥善做好污               染防制措施，避免污染環境。           二、另查本署公告第 8  批公私場所應申請設置、變更及操作許可之固定               污染源之光電材料、元件或電子零組件製造程序，係指從事光電材料               、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗布、上膠、蝕刻或顯影               等作業程序，其資本額達 3  萬元以上且廠房面積達 50 平方公尺以               上者。此係規範從事光電材料、元件或電子零組件製造時，其產生之               揮發性有機污染物，加以管制。           三、貴轄○○科技股份有限公司從事太陽能電池製造，倘包括前揭半導體               製造程序或光電材料、元件或電子零組件製造程序之公告條件，則屬               應申請設置、變更及操作許可之固定污染源，應依規定申請取得固定               污染源設置、操作許可證，始得操作。本案請依其製程實際操作狀況               ，逕依權責予以認定後復該公司。
相關法規：	空氣污染防制法第24條