標題：	一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第５條第１項第２款規定，揮發性有機物年用量大於50噸之工廠，其揮發性有機物防制設備之廢氣排放口應設置濃度監測器，管制重點主要在規範公私場所使用揮發性有機物（含溶劑及溶質）之原物料年用量超過50噸者，則應於廢氣排放口設置濃度監測器，以有效監控其污染排放
發文機關：	行政院環境保護署
發文字號：	環署空字第0970040396號函
發文日期：	民國 97 年 06 月 19 日
單位業務分類：	大氣環境/固定源空污防制
內容：	全文內容：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第 5  條第 1  項第 2  款               規定，揮發性有機物年用量大於 50 噸之工廠，其揮發性有機物防制               設備之廢氣排放口應設置濃度監測器，管制重點主要在規範公私場所               使用揮發性有機物（含溶劑及溶質）之原物料年用量超過 50 噸者，               則應於廢氣排放口設置濃度監測器，以有效監控其污染排放。           二、本案有關揮發性有機物年用量之定義，本署業分別於 93 年 3  月 1               8 日環署空字第 0930017432 號函及 97 年 5  月 22 日環署空字第               0970032069  號函釋在案，其中年用量之定義，係指含揮發性有機物               成分之原物料年實際用量為認定標準，亦即為有機化合物中「含揮發               性有機物成份之原物料」佔有機化合物百分比，計算固定污染源揮發               性有機物含量，應包括含揮發性有機物成份原物料中溶劑及溶質含量               。
相關法規：	半導體製造業空氣污染管制及排放標準第5條 空氣污染防制法第20條 空氣污染防制法第22條 空氣污染防制法第23條