業務分類	固定源空污防制

1421.	標題：一、依據中小型廢棄物焚化爐戴奧辛管制及排放標準第10條第１項第５款規定，焚化爐處理量未達四公噸／小時，且燃燒處理之廢棄物含氯量低於0.015%者，可檢具證明文件向當地主管機關申請免予檢測 字號：環署空字第0950030371號函 日期：095.04.26
1422.	標題：廢/停一、依空氣污染防制法第78條第１項第３款規定及本署92年12月17日公告，公私場所依消防法第14條規定取得當地消防主管機關核准從事山林、田野引火燃燒許可，並經當地主管機關核可後，免依空氣污染防制法規定處罰 字號：環署空字第0950030600號函 日期：095.04.26 停止適用日期：110.10.25
1423.	標題：廢/停一、依本署94年９月６日公告第八批公私場所應申請設置、變更及操作許可之事業廢棄物再利用或處理程序，包括以熱處理、萃取、蒸餾、蒸製、冷凝、油水分離或氫化等方式，從事再利用或處理程序者，該項公告條件係針對事業廢棄物再利用及處理程序，所可能產生之揮發性有機物、粒狀物及臭味等進行規範 字號：環署空字第0950026366號函 日期：095.04.25 停止適用日期：108.03.06
1424.	標題：一、依本署公告空氣污染行為公告事項一、（二）規定，礦物、土石之堆置體積在1，000立方公尺以上或不滿1，000立方公尺，但經當地主管機關指定加強管理，而未具備下列設備或措施之一，而有散布粒狀污染物情形者：１.堆置於防止粒狀物質飛散之建築物內？ 字號：環署空字第0950030098號函 日期：095.04.25
1425.	標題：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準第２條第１項第１款規定，半導體製造業係指從事積體電路晶圓製造、晶圓封裝、磊晶、光罩製造、導線架製造等作業者 字號：環署空字第0950030741號函 日期：095.04.25
1426.	標題：一、依本署公告第2批及第6批應申請設置、變更及操作許可之金屬品加工程序，係指從事金屬製成品之加工程序，其資本額大於３萬元及廠房面積大於50平方公尺以上之工廠，且符合下列條件之一者：？四、以有機溶劑或酸鹼液，從事表面清洗程序，且有機溶劑或酸鹼液總實際用量達20公噸／年以上者 字號：環署空字第0950026355號函 日期：095.04.19
1427.	標題：一、依據揮發性有機物空氣污染管制及排放標準第２條第２款專有名詞定義，石化製程為指以化學或物理操作產製各類石油產品、石化基本原料、石化中間產品或石化產品之製造程序，包括產製各類有機化學品、樹脂、塑膠、橡膠及合成纖維原料等產品 字號：環署空字第0950027766號函 日期：095.04.17
1428.	標題：一、依本署公告第八批公私場所應申請設置、變更及操作許可之光電材料、元件或電子零組件製造程序，係指從事光電材料、元件或電子零組件製造，並具有塗佈、去塗佈、上膠、蝕刻或顯影等作業程序，其資本額達３萬元以上且廠房面積達50平方公尺以上者 字號：環署空字第0950024954號函 日期：095.04.14
1429.	標題：廢/停空氣污染防制法第28條第1項規定，販賣或使用生煤、石油焦或其他易致空氣污染之物質者，應先檢具有關資料，向直轄市、縣（市）主管機關申請，經審查合格核發許可證後，始得為之；其販賣或使用情形，應作成紀錄，並依規定向當地主管機關申報 字號：環署空字第0950027765號函 日期：095.04.14 停止適用日期：095.10.02
1430.	標題：一、有關違反空氣污染防制法第31條之處分對象及適用條文疑義，查本署業於94年５月16日以環署空字第0940030551號函（諒達）復貴局在案，有關公私場所地面佈滿粒狀物，致車輛行進間產生揚塵，倘為製程之生產操作所產生者，則應屬違反空氣污染防制法第31條第１款規定；倘為公私場所內無適當防制措施程之營建工程或堆置粉粒狀物質等行為產生，則應屬違反空氣污染防制法第31條第２款規定；另倘為工廠運送礦物、土石或其他物質，且未具本署公告「空氣污染行為」中之相關防制設備或措施，致有散布粒狀污染物者，則應以違反空氣污染防 字號：環署空字第0950019385號函 日期：095.03.27