行政函釋內容
_本系統行政函釋內容係函釋作成當時之公文原文，其內所引述法規之名稱及條次可能因法規嗣後異動而有所不同
| 標題： |
函詢半導體製造業現地式處理設備是否應依「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」規定紀錄申報之疑義一案
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| 發文機關： |
行政院環境保護署 |
| 發文字號： |
環署空字第1070065151號函 |
| 發文日期： |
民國 107 年 08 月 24 日 |
| 單位業務分類： |
大氣環境/固定源空污防制 |
| 內容： |
主 旨：函詢半導體製造業現地式處理設備是否應依「半導體製造業空氣污染管制
及排放標準」規定紀錄申報之疑義一案，復如說明，請查照。
說 明：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準（以下簡稱排放標準）第 6
條第 3 款及第 8 款規定，污染防制設備為清水洗滌吸收設施者，
應記錄保養維護事項，以確保潤濕因子及填充段空塔滯留時間符合設
施規範，並每日記錄各洗滌槽洗滌循環水量及廢水排放流量；以其他
污染防制設備處理者，應記錄保養維護事項，並每日記錄主要操作參
數。
二、公私場所以現地式處理設備處理製程廢氣，再經後端濕式洗滌塔處理
，因現地式處理設備及濕式洗滌塔皆屬污染防制設備，故應符合排放
標準第 6 條相關紀錄、保存、檢測與申報之規定。倘公私場所使用
現地式處理設備屬於清水洗滌吸收設施者，仍應依排放標準第 6 條
第 3 項規定辦理。
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| 相關法規： |
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