行政函釋內容
_本系統行政函釋內容係函釋作成當時之公文原文，其內所引述法規之名稱及條次可能因法規嗣後異動而有所不同
| 標題： |
貴會函詢半導體製造業空氣污染管制及排放標準規定之疑義一案
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| 發文機關： |
行政院環境保護署 |
| 發文字號： |
環署空字第1070012925號函 |
| 發文日期： |
民國 107 年 03 月 08 日 |
| 單位業務分類： |
大氣環境/固定源空污防制 |
| 內容： |
主 旨：貴會函詢半導體製造業空氣污染管制及排放標準規定之疑義一案，復如說
明，請查照
說 明：一、依半導體製造業空氣污染管制及排放標準（以下簡稱排放標準）第 2
條第 8 款污染防制設備，係指處理廢氣之熱焚化爐、觸媒焚化爐、
鍋爐或加熱規定爐等密閉式焚化設施、冷凝器、吸附裝置、吸收塔、
廢氣燃燒塔、生物處理設施或其它經中央主管機關認定者。另依同排
放標準第 2 條第 10 款排放削減率之計算公式，為經密閉排氣系統
進入污染防制設備前之氣狀污染物質量流率扣減經污染防制設備後逕
排大氣之氣狀污染物質量流率，再除以經密閉排氣系統進入污染防制
設備前之氣狀污染物質量流率之百分比。
二、又依同排放標準第 4 條規定，半導體製造業產生之空氣污染物應由
密閉排氣系統導入污染防制設備，處理至符合相關規定後始得排放；
硝酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸及硫酸等之廢氣若以濕式洗滌設備處理，
無法證明符合前項標準時，其控制條件應符合相關規定。
三、有關貴會反映公私場所進行酸性廢氣污染物處理時，基於製程原物料
含多種危害性氣體之安全考量，於製程機台與中央洗滌塔之間增設現
地式處理設備，因現地式處理設備已削減中央洗滌塔入口前端之污染
物濃度，致僅計算中央洗滌塔排放削減率時，無法符合前揭排放削減
率應大於 95％ 之規定一節，依前揭規定，中央洗滌塔與現地式處理
設備皆屬排放標準定義處理廢氣中空氣污染物之污染防制設備，故其
排放削減率之計算得包含中央洗滌塔與現地式處理設備之處理效率。
四、公私場所將現地式處理設備與中央洗滌塔同時認定為空氣污染防制設
備並以排放削減率作為排放標準時，倘因現地式處理設備前端管線呈
現負壓狀態，欲進行採樣檢測作業會有吸入空氣引起燃燒爆炸等危險
性之安全問題，致無法採樣檢測進入污染防制設備前之氣狀污染物質
量流率時，則屬排放標準第 4 條第 2 項所稱無法證明符合前項標
準之對象，得以控制條件符合相關規定。惟公私場所固定污染源製程
、設施、污染防制設備仍應依實際狀況登載於固定污染源設置及操作
許可證，並依核定許可證內容進行設置及操作，倘操作內容涉及變更
或異動時，仍應依固定污染源設置及操作許可證管理辦法規定辦理。
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| 相關法規： |
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